该化学镍厂最靠近华北地段，主要生產智能电子元集成电路芯片涂层服务。生產历程中在使用含汞化学镍液，诱发废水里面汞氧化还原电位造成过高（初使氧化还原电位达15-20mg/L），远超的国家《废污水综合性摆放准则》（GB8978-1996）相关规定的0.05mg/L限制值。 生产废水部分及主要来源 废渣最主要的来自五湖四海真空镀膜成品库冲洗制作工艺，含汞化合物（Hg²⁺）、少量出络合态汞（如Hg(CN)₄²⁻）相应铜、镍等血本属。pH值振幅比较大（2-10），具备着渗透性强、难分解的功能。 净化处理方法程序流程 利用"化学式积淀+活性酶炭树脂吸附+膜过滤程序"搭档工序： pH调 ：污泥脱水NaOH将废渣调至酸性（pH=9-10），使汞构成氢阳极化合物水解 加硫钠沉垫 ：加进Na₂S转化更难溶的HgS滤渣（溶度积Ksp=4×10⁻⁵³） 水泥混凝土沉淀自己 ：污泥脱水PAC（配位聚铝）和PAM（PP酰胺）提升二沉池 活性酶炭吸 ：经过顆粒抗逆性炭柱粘附残渣汞（粘附存储量达8mg/g） 反渗透装置膜除理 ：用0.01μm口径反渗透膜膜挤占溶液态汞 工业废水治疗 ：石雕文化沉淀淤泥经板框压滤后按凶险废弃物加工 终结感觉 补救后出水量汞溶液浓度稳定的在0.008-0.03mg/L，祛除率>99.8%。设计一键化的程度高，补救费用约15元/吨水。此项目获选场地环保标准示范校项目。