某半导体设备加工制造企业主因晶圆的洗涤工艺技术生成含氨废水处理，储水量200吨/天。废水处理中除挥发酚外还含氟化物和微量分析血本属，处理高难度大。是时间尾气排放准则追求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 化学物质及来历 晶圆的洗涤废水处理工艺（大部分从何而来）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀步骤污废水 ：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值跌涨大 CMP磨研生产废水：含硅粒子及氧化还原电位 处理工艺技术流程步骤 运用"生物学奠定+膜脱离+折点氯化"乐队组合方法： 数据预处理 ：加药系统CaCl2除氟，把控好pH在7.5-8. 反渗透装置整体 ：祛除0.01μm上面颗料物 反侵入提液 ：将氟化物精炼至1000mg/L上述 折点氯化 ：高精度设定氯加药量，将高锰酸盐指数和转化了为N2 铝离子交流 ：质量保障高价属未达标 以后目的 氧化还原电位不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含水量达不到检查限 水回收利用率达75% 厌氧颗粒污泥形成量减轻40%